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2001年12月11，沪上微电科长实验室将进行一次曝光系统实验。

之前一再提到过，光刻机最核心的两个东西是镜头和光源，而今天这场实验的目的，倒不是说直接就搞定了镜头光源，这是不可能的，地表最强组合成立才半年，国家项目下来后的大佬加盟更是不过两个月的时间。

即便2001年的光刻机技术攻坚要比2019年容易很多，但也不至于这么快。今天这个实验的目的，是为了进一步证明浸没式光刻机的发展方向是正确的。

之前纪凯论证了浸没式光刻机的可行，但更多是属于理论上的结论。

这就好比林本坚带着理论找到尼康的时候人家并不搭理他，理论终究是理论，还是需要上升到实际运用的。

所以这次实验的目的一是进一步证明了方向正确后，可以给大家更大的信心，浸没式光刻机可以突破现在整个光刻机行业的瓶颈，搞定米国人和霓虹人搞不定的事，如果这个东西真的可行，对华夏这个领域的科研人员来说意义极其重大。

而在这个基础上，就可以更放心的投入更大的财力和精力了，特别是想要让国家投入更多的话。

上午9点，长实验室内，有一台看着明显要比光刻机粗糙很多的东西。进一步的验证研究方向的正确和实际生产出一台光刻机的最大区别就在于，不需要真的完成芯片的光刻行为，只需要能顺利采集一些数据即可。

而这种区别就会带来设备上的巨大区别，比如精密机械方面，实验不需要达到纳米级的自动化机械水平，你甚至拿手cāo)控都行。

但有些东西还是会有要求的，比如光源质量。

9点整，实验准备开始，孟谦则继续翻看徐国华的笔记本。

徐国华的笔记本上记录的不仅仅只是他的经历，他之所以跟孟谦说看看自己的笔记本能不能帮到自己，是因为上面还记录着他这么多年的技术积累。

就比如他参与到公司光刻机项目之后之后...

“2001年9月19

提升光刻机分辨率的方法有三个，缩短波长，增加数值孔径，减小k1因子。前段时间，江大带来的浸没式光刻机概念，可以大大提升折率，从而增加数值孔径。

为了更好的配合全新的浸没式光刻机概念，我们与长光所合作，在激光器上实现了巨大突破。

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